晶體加工鍍膜超純水設備

光子晶體、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水，如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話，會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業電子管生產中，如其中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。

1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝) 　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
 

1、連續運行禪水質穩定品質好。
2、系統運行穩定。
3、運行成本低。
4、占地面積小。
5、自動化程度高。
 

鐵離子： < 0.01mg/L
游離氯： < 0.5mg/L
硬度： < 1.0mg/L
活性SiO2: < 0.5mg/L
總有機碳： < 0.5mg/L
PH： 5.0-9.0